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森可瑞:什么是复合集流体?复合铜箔?

发布时间:2023-12-03
什么是复合集流体?复合铜箔?
  很多人对这个名词不知道,复合集流体听都没有听说过,那我们就来了解一下,复合集流体是什么?
       大家都知道,锂离子动力电池有四大关键材料,包括正极、负极、隔膜、电解液。
 
  集流体是正负极的重要组成部分,作为汇集电流的结构或零件,用于附着活性物质,将活性物质产生的所产生的电子汇集起来并对外进行电流输出,从而实现化学能转换为电能的过程。
 
  目前,主流工艺为正极集流体铝箔,负极集流体铜箔。
 
  复合集流体则是集流体的新兴技术,存在替代传统电池铜箔铝箔的可能性。复合集流体具有类似“三明治”的夹层结构,在传统的铜箔铝箔中间,加高分子绝缘树脂PET/PP/PI等材料的导电塑料薄膜,而中间的夹层能起到“保险丝”的作用。
 
  与传统集流体相比,复合集流体的特殊结构能有效控制穿刺问题,中间的绝缘基材具有阻燃性,短路时会如保险丝般熔断,减少短路起火爆炸的问题,大幅提升电池安全性能。
 
  除此之外,复合集流体还可以降低成本、提升能量密度,以复合铜箔为例,相较于传统铜箔,复合铜箔节省材料成本近40%,质量比传统铜箔轻60%,能量密度提升5-10%。
 
  图:复合集流体示意图 来源于网络

说到复合铜箔,我们就不得不说它的工艺制成了。
目前复合铜箔产业界采用的复合铜箔制备工艺包括一步法(化学沉积、磁控溅射、蒸镀)、两步法(磁控溅射+水电镀)和三步法(磁控溅射+蒸镀+水电镀)。
这一节我们主要讲解:主流的复合铜箔制备方法

一步法化学沉积:首先对基材表面进行清洁、粗化,提升基材表面粗糙度,再沉积铜层以形成良好的结合力。塑料电镀通常采用的工艺流程为:除油→粗化→敏化→活化→化学沉铜。
 
磁控溅射:磁控溅射包括活化和镀铜两个步骤。
 
1)活化:由于镀层和高分子基材之间结合力差,且大多数高分子材料为不导电的绝缘体,无法直接电镀,需先进行活化处理,即在高分子材料表面沉积一层导电的金属膜。真空磁控溅射活化过程首先是控制设备本体进入真空状态,再通入高纯氩气(纯度>99.99%),电子与氩离子发生碰撞,电离出氩正离子和新的电子,大多数电子被约束在磁场附近,氩离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击铜靶,产生溅射,中性的铜原子或部分铜离子沉积在高分子基材上形成一层5~20nm的薄膜。
 
2)镀铜:以活化后的基材为原料进行磁控溅射镀铜,最终形成一层10~40nm的薄膜。
 
磁控溅射示意图

蒸镀:与磁控溅射相比,蒸镀的沉积效率更高,缺点是需要在高温下进行,容易造成高分子材料的损伤,从而导致良率降低。
 
水电镀:磁控溅射或蒸镀后形成一层纳米级的金属层后,导电性已满足酸性离子置换条件,此时可通过水电镀增厚金属层至1um左右,实现集流体的导电需求。水电镀的原理是将基材表面金属层浸入金属盐的溶液中作为阴极,无氧铜作为阳极,然后接通直流电源,金属层表面沉积镀层,目前水电镀增厚金属的过程包括碱性离子置换(增厚100nm)和酸性离子置换(增厚至1um),碱性离子置换得到的镀铜层与基材的结合力强,铜层晶粒致密,被称作“高密度铜层”,而酸性粒子置换效率更高,镀层光亮平整。
 
水电镀原理示意图

区分两步法和三步法的核心工艺是真空蒸镀,两步法没有真空蒸镀,三步法包括真空蒸镀。由于磁控溅射线速度较低,铜层沉积速率慢,真空蒸镀可以大幅提升沉积效率,但蒸镀设备工作温度高达1000℃,高分子材料容易受到热损失,因此目前主流的复合铜箔制备方法为两步法即:磁控溅射+水电镀工艺

目前在行业内川渝地区复合铜箔制备
磁控溅射设备厂家:四川海格锐特科技有限公司成都四盛科技有限公司、四川金石东方新材料科技有限公司

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